一、设备型号、关键性能参数

设备型号：PHI 5000 VersaprobeⅡ

关键性能参数指标：

• 聚焦Al Kα单色化X射线源

• 实现X射线激发二次电子影像（SXI）（带有形貌信息的二次电子像）

• 五轴样品台 ：可实现 0~90º倾斜用于角分辨分析，角度分辨≤±1º； （变角范围大）

• 双束中和系统：（非常特别的一种无需校准的中和系统）

• 团簇离子枪（GCIB）：（特别适合用于锂电中SEI膜的研究）

• 紫外光电子谱（UPS ）

二、设备原理

XPS的原理是用X射线去辐射样品，使原子或分子的内层电子或价电子受激发射出来。被光子激发出来的电子称为光电子。通过测量光电子的能量，以光电子的动能/束缚能 binding energy为横坐标，相对强度为纵坐标可做出光电子能谱图。

三、应用范围

• 元素的定性分析。可以根据能谱图中出现的特征谱线的位置鉴定除H、He以外的所有元素。

• 元素的定量分析。根据能谱图中光电子谱线强度（光电子峰的面积）反应原子的含量或相对浓度。

• 固体表面分析。包括表面的化学组成或元素组成，原子价态，表面能态分布，测定表面电子的电子云分布和能级结构等。

• 化合物的结构。可以对内层电子结合能的化学位移精确测量，提供化学键和电荷分布方面的信息。

四、设备特色

• 单色化AlKαX射线源：最小束斑不大于10 μm，且可在不大于10μm束斑下，实现图谱采集，化学态成像，深度剖析，以及变角分析。

• 五轴马达样品台（X、Y、Z移动，倾斜及旋转）

• 成像XPS：快速成像，最佳空间分辨率优于10 μm

• 角分辨功能：满足不小于±90°角分辨分析，变角精度好于1°。

• 荷电中和系统：电子束离子束双束中和，对于PET标样，样品满足PET中O-C=O半峰宽小于0.85eV。

• 离子枪：Ar离子能量最大不低于5000 eV，最大离子束斑不小于10mm X 10mm

• 团簇离子枪：团簇离子枪模式工作气体为氩气，最大加速电压20kV。

• 加热制冷装置：至少可实现最高500ºC加热以及最低 -120ºC制冷

• 紫外光电子谱（UPS）。

五、应用领域

有机材料，无机材料，半导体器件，催化，分子生物学等等。