一、设备型号、关键性能参数
型号：Uni-Bulb RF plasma
关键参数：

• 离子源功率：≤500 W

• 设备真空度：背底10-8 Torr；

• 反应气体：N2；H2；Ar

• 样品加热温度：不超过800℃

• 工作距离：180~230 mm

• 样品台转速：0-30 RPM

• 关键尺寸：入射角与表面法线25°

• 可应用的样品尺寸：2英寸

二、设备原理：

高频电流流经感应线圈产生高频电磁场，工作气体从而被电离成为等离子体。等离子体在电场和磁场的作用下加速运动轰击样品表面，在样品表面产生一些挥发性气体的同时对表面具有刻蚀作用。因此可以利用设备对样品表面进行等离子体清洗，从而避免湿法清洗液体带来的介质污染。用户可通过调节射频源的功率调整等离子体的运动速度，样品放置的工作距离等，达到期望的清洗效果。

三、应用范围：
获得原子级表面清洁的样品，以备后续测试或工艺过程

四、设备特色：
超高真空Plasma表面清洗设备与LEED-AES联用，快速有效进行样品表面处理并获得表面信息。