一、设备型号、关键性能参数
型号: TOF.SIMS5-100
关键性能参数:
功能:元素构成和化学结构的信息
工作压力:UHV
分析用离子源:Bi;剥离离子源:EI源和Cs源;选配团簇离子源;
可扩展应用于分析绝缘材料和生物医学材料;
5轴样品架,温度-150℃~600℃。
二、设备原理
飞行式二次离子质谱(TOF-SIMS)是超真空环境下向样品射入一次离子束,从样品的浅表层(1-3 nm)释放出二次离子。将二次离子导入飞行时间(TOF型)质谱仪,检测保留了表面成分化学结构的分子离子和部分碎片离子,就可以获取有关表面的元素构成和化学结构的信息。TOF-SIMS是一种调查技术手段,可探测元素周期表中的所有元素,可分辨同位素。此外,TOF-SIMS也可以提供质谱讯息;在样品XY维度上的图像信息;以及样品Z维度上的深度分布信息。
TOF-SIMS:
(1)细聚焦的离子束在样品表面扫描可获得二维成分图;
(2)用离子束将材料表面一层层除去的同时分析该层的质谱图,可获得三维的深度分布。
三、应用范围
有机和无机材料的表面微量分析
直接来自表面的质谱
表面的离子成像(2D,3D)
飞行时间二次离子质谱是一种非常灵敏的分析系统。对样品的分析,如痕量金属探测,化合物结构测定,精确原子量测定,同位素标定,失效分析,有机物多层膜分析等方面。许多用ESCA,AES等分析不能确定的物质,都可以采用TOF-SIMS分析。
该系统可以应用于各个研究领域,譬如基础物理,基础化学(催化剂表面,传感修饰界面),生物(材料,细胞,组织,生物反应器表面),机械(机械金属材料,高压容器表面缺陷,合金材料),材料(高分子材料表面,太阳能电池敏化材料),环境(大气颗粒污染物表面成份解析),新型显示材料(有机材料成分和空间分布测定,薄膜成分分析和厚度测定,氧化物分析,衰变过程分析,失效分析)等。
四、设备特色
采用Bi作为分析离子源,最小束流直径< 90 nm;
剥离速率:> 6 µm/h;
深度分辨率:< 1 nm
样品移动范围:X:±40~50mm;Y:±50~60mm;Z:0~20mm
影像/mapping:是
质量分辨率:
低质量时质量分辨率(SiH+:29 amu):≥10000 (半峰宽;100%传输率)
高质量时质量分辨率(>200 amu):≥15000 (半峰宽;100%传输率)
分析绝缘体时质量分辨(on PET:104amu):≥9000
质量范围:1~12000 amu以上
探测极限:ppm~ppb量级
侦测的信号可为分子和元素种类
侦测的元素可为包括元素周期表中的所有元素,以及分子团簇等
可分析绝缘材料和生物材料;
基本上没有标准品就无法定量
样品须与真空兼容
五、应用领域
可应用于半导体,微电子,薄膜,纳米材料,化学,医药,生物,冶金,汽车、航天工业、国防、照明设备、光电太阳能等领域。