仪器生产商： ----
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主要参数： ----
仪器介绍：
一、设备型号、关键性能参数
型号：PLD-300
真空极限：超高真空（优于2x10^-10 torr ，经烘烤除气后）
样品台加热温度： RT -1000℃
样品尺寸：最大2英寸
激光波长：248nm
激光最大脉冲能量：800mJ
激光脉冲频率范围：1~10Hz
二、设备原理
整个PLD镀膜过程通常分为三个阶段。
1.激光与靶材相互作用产生等离子体。
2.等离子体火焰形成后，其与激光束继续作用，进一步电离
3.等离子体在基片上成核、长大形成薄膜。
三、应用范围
沉积高质量薄膜
四、设备特色
超高真空（优于2x10^-10Pa，经烘烤除气后）
样品原位处理（加热、氩离子轰击）
差分式高能电子衍射仪（实时原位精确地控制原子层或原胞层尺度的外延膜生长，
检测样品的表面结构）
进样室配有样品库（装载6片样品或靶材等）
可实现不破真空更换靶材
五、应用领域
可应用于超导、光学、金属、半导体、铁磁、铁电等
主要仪器管理员： 王利(电话:15155924349)
工作时间： 08:30-12:00;13:30-17:30
最小可预约时间段： 0.5 小时
最大可预约时间段： 168 小时
日历最小单位： 0.5 小时
最近提前预约时间： 未授权用户: 24小时； 普通资格用户: 24小时； 资深资格用户: 24小时
最远提前预约时间： 未授权: 720 小时 0 点； 普通: 720 小时 0 点； 资深: 720 小时 0 点
最大有效预约次数： 5 次/天
无代价撤销预约时间： 1440 分钟
| 用户资格 | 工作时间 | 非工作时间 |
|---|---|---|
| 未授权资格 | ||
| 普通资格 | ||
| 资深资格 |
| 序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
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