仪器生产商: ----
资产编号: SN202311042
资产负责人: ----
购买经办人: ----
主要配件: ----
主要参数: ----
仪器介绍:
一、设备型号、关键性能参数
型号:Microwriter ML3
关键性能参数:
加工尺寸:8寸以下兼容
曝光光源:385nm
直写分辨率:0.4um,0.6μm,1μm,2μm,5μm
对准显微镜镜头:x3,x5,x10,x20,x50 自动切换
最快直写速度:
4mm2/min @ 0.4μm
17mm2/min @ 0.6μm
50mm2/min @ 1μm
120mm2/min @ 2μm
180mm2/min @ 5μm
最小线宽尺寸:0.4μm
多层套刻精度:±0.5μm
最小栅格精度:100nm
样品台最小位移步长:50nm
二、设备原理:
Microwriter是通过电脑控制数字微镜阵列(DMD)像素的开和关以控制光路,将设计版图映射到晶片表面的光刻胶上,每次曝光一个写场中的图形,接着曝光下一个写场的图形,直至将整个晶片完全曝光。样品台(放置样品)被平面内XY两轴向的精密位移电机控制,能实现写场间的高精度拼接。该光刻设备无需加工物理掩膜版,设计好的电子版图文件导入控制电脑,经过软件处理和曝光参数设定进行全自动图形曝光。
三、应用范围:
亚微米级图形结构制备
二维材料电极图形制备
无固定掩模光刻加工
三维结构图形制备
四、设备特色:
灰度直写:255级;
温度补偿功能:调节系统激光干涉仪校正参数,补偿温度偏差;
虚拟掩模板对准:曝光前调用虚拟掩模板,辅助套刻对准;
气动减震光学平台
自动晶圆检查工具:可自动识别晶圆中心
五、应用领域:
MEMS、半导体、光学领域等
主要仪器管理员: 王虎(电话:18896719689)
仪器管理员: 荣毅(电话:18100674227)
仪器管理员: 袁敏(电话:18840925012)
工作时间: 09:00-12:00;14:00-18:00
最小可预约时间段: 1 小时
最大可预约时间段: 168 小时
日历最小单位: 0.5 小时
最近提前预约时间: 未授权用户: 24小时; 普通资格用户: 24小时; 资深资格用户: 24小时
最远提前预约时间: 未授权: 720 小时 0 点; 普通: 720 小时 0 点; 资深: 720 小时 0 点
最大有效预约次数: 5 次/天
无代价撤销预约时间: 1440 分钟
用户资格 | 工作时间 | 非工作时间 |
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未授权资格 | ||
普通资格 | ||
资深资格 |
序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
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