仪器生产商： ----
资产编号： SN202205004
资产负责人： ----
购买经办人： ----
主要配件： ----
主要参数： ----
仪器介绍：
关键性能参数
电源：2个（1DC+1RF）
靶位：5支（1强磁+4标准）
进气：N2、Ar、O2
基片温度：室温至800℃
设备极限真空：<5×10-8 Pa，常驻本底真空<1×10-7 Pa
薄膜不均匀性<±5%
应用范围
Al、Ti、Ni、Ta、Nb、Cu、TiN等
设备特色
进样室可存放3个2寸样品
可加衬底射频偏压，完成清洗或偏压生长
设备原理
一种较为常用的物理气相沉积镀膜法，在真空室中，利用低压气体放电现象，使处于等离子状态下的离子轰击靶表面，并利用环状磁场控制辉光放电，使溅射出的粒子沉积在基片上，从而得到均匀优质的薄膜
应用领域
适用于绝大部分器件工艺、表面装饰等领域
在高温超导薄膜、太阳能电池、记忆合金等薄膜研究方面起到重要作用
快速沉积优质超硬膜，增透膜，表面功能膜等适应科技领域前沿方向
主要仪器管理员： 王虎(电话:18896719689)
仪器管理员： 荣毅(电话:18100674227)
工作时间： 08:30-12:00;13:30-17:30
最小可预约时间段： 2 小时
最大可预约时间段： 168 小时
日历最小单位： 0.5 小时
最近提前预约时间： 未授权用户: 24小时； 普通资格用户: 24小时； 资深资格用户: 24小时
最远提前预约时间： 未授权: 720 小时 0 点； 普通: 720 小时 0 点； 资深: 720 小时 0 点
预约保护时间： 15 分钟
失约保护时间： 15 分钟
断电延时时间： 30 秒
最短重上电时间： 5 秒
使用超时提醒： 120 秒
最大有效预约次数： 5 次/天
无代价撤销预约时间： 1440 分钟
| 用户资格 | 工作时间 | 非工作时间 |
|---|---|---|
| 未授权资格 | ||
| 普通资格 | ||
| 资深资格 |
| 序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
|---|
sinano.ac.cn